設備名稱:PL mapping system
                            服務價格:¥200.0 元/小時
                            設備型號:PLATOM
                            設備描述:適用于測試氮化鎵、砷化鎵、磷化銦外延薄膜厚度、反射率及wafer BOW量測 查看詳情
                            設備名稱:外延片表面缺陷檢測儀
                            服務價格:¥300.0 元/小時
                            設備型號:Nspec
                            設備描述:高端全自動微觀檢測系統,可應用于材料科學與生命科學; 可適用透明及半透明wafer缺陷檢測 整片Mapping并生成報告 查看詳情
                            設備名稱:高真空電子束蒸鍍機電化學載流子濃度分析儀
                            服務價格:¥100.0 元/小時
                            設備型號:ECVpro
                            設備描述:IIIV GaAs, GaN, IIVI族, Si及寬帶半導體材料濃度縱向分布測試 查看詳情
                            設備名稱:膜厚段差測量儀
                            服務價格:¥10.0 元/分鐘
                            設備型號:Dektak 150
                            設備描述:主要應用于薄膜厚度測量、樣品表面形貌測量、樣品表面粗糙度/波紋度測量等眾多領域 查看詳情
                            設備名稱:SEM/EDS
                            服務價格:¥200.0 元/小時
                            設備型號:S-3400N
                            設備描述:廣泛應用于材料表面顯微分析 查看詳情
                            設備名稱:XRD(X光衍射儀)
                            服務價格:¥200.0 元/小時
                            設備型號:X'Pert PRO
                            設備描述:快速定性、半定量分析多晶材料在常溫狀態下的結構組成; 小角散射、薄膜厚度、應力分布等分析。 查看詳情
                            設備名稱:PL(熒光光譜量測系統)
                            服務價格:¥200.0 元/小時
                            設備型號:RPMBlue
                            設備描述:適用于測試藍/綠氮化鎵外延薄膜厚度、反射率 查看詳情
                            設備名稱:Hall量測系統
                            服務價格:¥100.0 元/小時
                            設備型號:HL5500PC
                            設備描述:可測試半導體材料及外延層材料電阻系數,載流子濃度及遷移率 應用材料:Si、III-V、II-VI和寬禁帶半導體材料 查看詳情
                            設備名稱:PECVD
                            服務價格:¥500.0 元/小時
                            設備型號:800plus
                            設備描述:適用于SiO2,SiNx等材料的高品質鍍膜 查看詳情
                            設備名稱:高真空電子束蒸鍍機
                            服務價格:¥0.0 元/小時
                            設備型號:FU-16PEB
                            設備描述:適用于金屬膜、介質膜高品質蒸鍍 查看詳情
                            設備名稱:MOCVD
                            服務價格:¥800.0 元/小時
                            設備型號:2800G4 HT
                            設備描述:適用于化合物半導體外延生長 查看詳情
                            設備名稱:Auto Mask Alinger
                            服務價格:¥600.0 元/小時
                            設備型號:MA100e
                            設備描述:適用于化合物半導體光刻工藝 查看詳情
                            設備名稱:等離子化學氣相沉積
                            服務價格:¥500.0 元/小時
                            設備型號:CC-200Cz
                            設備描述:適用于SiO2,SiNx等材料的高品質鍍膜 查看詳情
                            設備名稱:干法等離子刻蝕機
                            服務價格:¥500.0 元/小時
                            設備型號:NE-550EXz
                            設備描述:適用于半導體材料、金屬材料等的精細刻蝕 查看詳情
                            設備名稱:高真空電子束蒸鍍機
                            服務價格:¥300.0 元/小時
                            設備型號:ei-5z
                            設備描述:適用于金屬膜、介質膜高品質蒸鍍 查看詳情
                            福彩3d开奖结果